Рабочая станция ионной литографии Zeiss Crossbeam 1540XB

Рабочая станция электронной и ионной литографии реализует методики электронной и ионной микроскопии, литографии сфокусированным ионным пучком, электронной литографии, вторичной ионной масс-спектрометрии, а также позволяет выполнять подготовку образцов для просвечивающей электронной микроскопии.

Технические характеристики электронной колонны:

• Энергия электронов - 0.1-30 кэВ.
• Разрешение электронной колонны - 1.1 нм при 20 кэВ.
• Ток электронного пучка - 4 пА - 40 нА.

Технические характеристики ионной колонны:

• Энергия ионов Ga+ - 2-30 кэВ.
• Разрешение ионной колонны - 8 нм при 30 кэВ, 1 пА.
• Ток ионного пучка - 1 пА - 50 нА.

• Микроманипулятор Kleindiek.
• Внешний блок развертки Raith Elphy PLUS.
• Система напуска газов.
• Масс-спектрометр вторичных ионов.

Сайт производителя.