Zeiss Crossbeam 1540XB

Рабочая станция электронной и ионной литографии реализует методики электронной и ионной микроскопии, литографии сфокусированным ионным пучком, электронной литографии, вторичной ионной масс-спектрометрии, а также позволяет выполнять подготовку образцов для просвечивающей электронной микроскопии.

 

Технические характеристики электронной колонны:

  • Энергия электронов - 0.1-30 кэВ.
  • Разрешение электронной колонны - 1.1 нм при 20 кэВ.
  • Ток электронного пучка - 4 пА - 40 нА.

 

Технические характеристики ионной колонны:

  • Энергия ионов Ga+ - 2-30 кэВ.
  • Разрешение ионной колонны - 8 нм при 30 кэВ, 1 пА.
  • Ток ионного пучка - 1 пА - 50 нА.

 

  • Микроманипулятор Kleindiek.
  • Внешний блок развертки Raith Elphy PLUS.
  • Система напуска газов.
  • Масс-спектрометр вторичных ионов.

 

Сайт производителя.